লিথোগ্রাফি প্রক্রিয়ায়, ই-বিম রেজিস্ট বেকিং কোনো সাধারণ ধাপ নয়; এটা হলো লাইনওয়িডথ নিয়ন্ত্রণের জন্য অপরিহার্য ধাপ। ৫°C এর মতো তাপমাত্রার পরিবর্তনও...

On the fab floor, you measure the margin for error in photoresist processing in nanometers. A few degrees off during soft bake or hard bake is enough...