Di area produksi, seseorang akan belajar dengan cepat: perubahan suhu sebesar 0,3°C saja sudah cukup untuk mengubah tingkat eksposur cahaya pada wafer. Suhu yang terlalu tinggi di bagian tepi wafer akan menyebabkan perlu adanya penyesuaian ulang proses pengolahan wafer. Wafer tidak akan mentolerir ketidakteraturan suhu tersebut.
Apa yang Penting Secara Teknis
Kami merancang elemen pemanas oven NIR berupa emitor inframerah gelombang pendek yang terletak di dalam struktur kuarsa. Tujuannya adalah untuk mencapai tingkat keseragaman suhu hingga di bawah satu milimeter di seluruh permukaan wafer, serta memastikan bahwa nilai suhu tetap konstan setiap kali proses pengolahan dilakukan. Profil suhu yang dihasilkan berkisar antara ±0,1°C, sehingga tidak ada pemborosan energi dalam proses pengolahan wafer. Penggunaan bahan-bahan yang sesuai untuk ruang bersih serta desain yang meminimalkan partikel sangat penting agar tidak terjadi kontaminasi pada wafer maupun di dalam ruang oven.
Mengapa Hal Ini Efektif
Dalam proses litografi, tingkat presisi ini memungkinkan pelarut keluar secara konsisten, dan pola aliran polimer juga tetap sama setiap kali proses pengolahan dilakukan. Dengan demikian, kontrol dimensi kritis pada wafer dapat dilakukan dengan lebih baik. Hasilnya adalah keseragaman yang lebih baik pada wafer, pengurangan jumlah produk yang perlu diperbaiki setelah proses pengolahan, serta perilaku lebar garis yang dapat diprediksi seiring perubahan dosis eksposur.
Sistem ini beroperasi 24/7 dengan hasil yang stabil. Kami memiliki unit-unit yang telah beroperasi selama lebih dari 5.000 jam namun masih mempertahankan konsistensi hasilnya. Penggunaan energi pun dikontrol dengan baik, sehingga tidak ada kekhawatiran akan pemborosan energi.
Hal-Hal yang Perlu Diketahui
Proses pemasangan elemen pemanas bergantung pada geometri rongga oven dan pola aliran udara. Elemen pemanas perlu ditempatkan di posisi yang tepat, sehingga suhu di area tersebut sesuai dengan suhu permukaan wafer. Setelah pemasangan, diperlukan waktu singkat untuk menstabilkan emitor tersebut dan menentukan kurva kalibrasinya.
Kompatibilitas dengan ruang bersih kelas 1–100 merupakan hal yang wajib dipenuhi. Namun, perlu diperiksa jalur saluran udara dan sistem pengumpulan udara di sekitar alat tersebut. Hal ini bertujuan untuk mencegah gas-gas yang dihasilkan kembali masuk ke tempat yang tidak diinginkan.