リソグラフィープロセスにおいて、Eビームレジストの加熱処理は単なる工程の一つではありません。それは、線幅制御を決定する重要な要素なのです。ソフトベイク時の温度変動が5℃あるだけで、キャリブレーション精度が急速に低下してしまいます。プロセスにおいては推測は許されず、実際の生産現場ではまったく容認され...

ファブフロアでは、フォトレジスト処理の許容誤差をナノメートル単位で測定します。ソフトベイクやハードベイク時に数度のずれがあるだけで、重要寸法が変わり歩留まりに影響を及ぼします。私たちは、その不確実性を排除するために赤外線フォトレジストベーキングランプを設計しました。 技術的に重要な点 短波長赤外線...