노출 후 가열 장치(PEB 히터)

리소그래피 공정에서는 0.2°C만큼의 온도 변동이 있어도 CD의 가장자리가 손상될 수 있으며, 이로 인해 생산 효율이 떨어질 수 있습니다. 저희는 이러한 변동성을 없애기 위해 이러한 포스트-익스포저 베이크 히터를 개발했습니다. 그렇게 함으로써 포토레지스트의 성능이 설...