Op het gebied van lithografie is het verhitten van de E-beam resist geen gewone stap – het is eerder een cruciale factor voor het bepalen van de...

Op de lithografieafdeling kan een PEB-verwarmer die zelfs maar 0,2°C afwijkt van het gewenste temperatuurniveau, schade toebrengen aan de randen van...

Op de productievloer meet u de foutmarge in nanometers bij het verwerken van photoresist. Een paar graden afwijking tijdens soft bake of hard bake is...