在晶圆厂车间，光刻胶处理的误差裕度以纳米计量。软烘或硬烘过程中温度偏差几度，就足以导致关键尺寸偏移，影响良率。我们设计的红外光刻胶烘烤灯，旨在消除这种不确定性。
技术关键点
我们采用短波红外（NIR）发射器，将能量直接传导至光刻胶层，最大程度减少热滞后。在整个烘烤曲线范围内，实现晶圆级温度均匀度控制在±0.1°C以内。闭环控制系统确保即使在线电压波动或环境温度变化时，温度精度依然稳定。
在Class 1–100洁净室环境中，零颗粒物产生是基本要求，这些灯具能够满足。输出稳定性可维持超过5,000小时的运行时间。
光刻应用原理
软烘主要是确保溶剂降至合适的残留水平，硬烘则是固定图形。每个热处理步骤的可重复性是实现工艺控制的基础。
这样可以实现更严格的线宽控制、减少缺陷，并确保生产周期时间的可预测性。快速升温和降温相比传统热板，有助于降低能耗，从而在不降低产量的情况下降低运行成本。
需提前了解的事项
该灯具可直接替换现有传送轨和涂胶机，但需配备专用的洁净电源以维持光谱稳定性。
发射器与晶圆之间的距离必须精确设定，任何偏差都会影响热预算和温度均匀性。调试阶段时间较短，需针对具体光刻胶化学性质调校烘烤曲线。设定完成后，工艺参数保持锁定状态。