曝光后烘烤加热器

在光刻工艺中，如果PEB加热器的温度波动达到0.2摄氏度，就足以破坏CD的边缘精度，进而导致成品率下降。我们设计的这种曝光后烘烤加热器，就是为了消除这种温度波动，从而确保光阻材料的性能符合预期标准。 关键点在于： 我们希望实现晶圆表面各处的温度均匀性在±0.1摄氏度范围内，这样无论批次如何变化，烘...