<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotorezist on Warm IR Heating Equipment</title>
		<link>http://warm-ir-heat-tools.com/cs/tags/fotorezist/</link>
		<description>Recent content in Fotorezist on Warm IR Heating Equipment</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 04 Jun 2026 01:12:33 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heat-tools.com/cs/tags/fotorezist/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampička na pečení fotorezistu</title>
				<link>http://warm-ir-heat-tools.com/cs/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 04 Jun 2026 01:12:33 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heat-tools.com/cs/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heat-tools.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Lampička na pečení fotorezistu&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na výrobní lince měříte toleranci chyb při zpracování fotoresistu v nanometrech. Odchylka o několik stupňů během soft bake nebo hard bake stačí k posunu kritických rozměrů a snížení výtěžnosti. Naše infračervené lampy pro vypalování fotoresistu jsme navrhli tak, aby tuto nejistotu odstranily.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co je technicky důležité&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Používáme krátkovlnné infračervené (NIR) emitory, které energií přímo zasahují vrstvu fotoresistu, což minimalizuje tepelnou setrvačnost. V celém profilu vypalování dosahujete uniformity na úrovni waferu v rozmezí ±0,1 °C. Uzavřená regulační smyčka udržuje tuto přesnost stabilní i při kolísání napětí v síti nebo změnách okolní teploty.&lt;br&gt;&#xA;Generování částic na úrovni nuly je nezbytností v čistých místnostech třídy 1–100 a tyto lampy toto splňují. Stabilita výstupu vydrží přes 5 000 hodin provozu.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
