Ausrüstung für die Wafer Fertigungsanlagen

Mon, 22 Jun 2026 19:35:50 +0800

In der Fertigung ist die Temperatur nicht einfach nur eine Einstellung – sie stellt vielmehr eine Grenze dar. Eine Abweichung von einem halben Grad während des Weichbrennvorgangs des Photorezysts kann dazu führen, dass die gewünschten Dimensionen nicht mehr eingehalten werden – mit dem Ergebnis, dass viele Produkte als unbrauchbar gelten. Deshalb haben wir unsere Infrarot-Heizmodule so konzipiert, dass sie den Anforderungen der Lithografie und des Photorezystverarbeitungsprozesses entsprechen: wiederholbare Heiztemperatur ohne Kompromisse.

Was technisch wichtig ist: Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotemitter mit schneller Reaktionszeit und präziser Spektralkontrolle, um die Wafer direkt zu erhitzen. Dadurch entsteht weniger thermische Verzögerung und weniger Einfluss durch die Behälterumgebung. Die Homogenität der Temperaturen auf der Waferoberfläche bleibt im gesamten Prozessbereich bei ±0,1°C – dadurch bleibt der Fluss des Photorezysts sowie die Entfernung des Lösungsmittels konstant. Der Härtebrennvorgang sorgt wiederum für eine gleichmäßige Vernetzung des Photorezysts.

Linie on Warm IR Heating Equipment

Ausrüstung für die Wafer Fertigungsanlagen