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		<title>Ofen on Warm IR Heating Equipment</title>
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		<description>Recent content in Ofen on Warm IR Heating Equipment</description>
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				<title>Heizelement für Halbleiteröfen</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heat-tools.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Heizelement für Halbleiteröfen&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;In der Fertigungslinie lernt man schnell: Schon eine Abweichung von 0,3 °C bei der Erwärmung kann die Qualität der Wafers beeinträchtigen. Eine zu starke Erwärmung an den Rändern der Wafers führt dazu, dass man wiederholte Prozesse durchführen muss, um die gewünschte Qualität zu erreichen. Wafers verzeihen keine thermischen Unregelmäßigkeiten.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was technisch wichtig ist:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wir haben die Heizelemente des NIR-Ofens so konstruiert, dass sie aus kurzwelligen Infrarot-Halogenemitttoren bestehen. Ziel ist es, eine Präzision von unter einem Millimeter auf der gesamten Fläche des Wafers zu erreichen – sowie konstante Einstellwerte bei jedem Prozesslauf. Das thermische Profil wird auf ±0,1 °C begrenzt; dadurch wird verhindert, dass die Energieverschwendung zu großen Problemen führt. Materialien, die für Reinräume geeignet sind, sowie ein Design, das Partikelbildung minimiert, sorgen dafür, dass keine Kontaminationen auf die Wafers oder in den Ofen gelangen.&lt;/p&gt;</description>
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