Heizer für die Nachbelichtung (PEB)

Wed, 24 Jun 2026 01:24:08 +0800

Im Bereich der Lithografie kann ein PEB-Hitzer, der auch nur 0,2 °C abweicht, dazu führen, dass die Ränder der CDs beschädigt werden – und damit auch die Qualität der Produkte beeinträchtigt wird. Wir haben diesen Heizer entwickelt, um diese Unberechenbarkeiten auszuschließen, sodass die Chemikalien des Photoresists sich genau so verhalten, wie es vorgesehen ist.

Was wirklich wichtig ist:
Wir streben eine thermische Homogenität auf Wafer-Ebene von ±0,1 °C an. Dadurch sind sowohl die sanfte als auch die intensive Erhitzungsschritte wiederholbar – Lot für Lot. Kurzwellige Infrarotkomponenten sorgen für schnelle und präzise Temperaturanpassungen. Die Heizzone ist so konzipiert, dass keine Partikel entstehen – dadurch kann sie problemlos in Reinräumen der Klassen 1–100 eingesetzt werden, ohne dass ein Kontaminationsrisiko entsteht. Leistung, Spannung und Abmessungen entsprechen den Standards der gängigen Geräte. Zudem ist die Schnittstelle so gestaltet, dass sie einfach in Ihre bestehende Infrastruktur integriert werden kann.

(PEB) on Warm IR Heating Equipment

Heizer für die Nachbelichtung (PEB)