Heizung zur Herstellung von Quantenpunkten

Sun, 31 May 2026 02:48:03 +0800

Watch the 300 mm wafer roll into the lithography cell. Spin on the photoresist, and the clock starts ticking. You need a soft bake that pulls out solvent without making the resist flow. You need a hard bake that crosslinks the resist without inducing slip or stress. And you need both—consistently—so the process survives lot after lot of qualification. Wenn der 300-mm-Wafer in die Lithografie-Zelle eingelegt wird, wird Fotolack aufgetragen, und die Zeit beginnt zu laufen. Es wird ein Softbake benötigt, das das Lösungsmittel entzieht, ohne dass der Lack fließt. Außerdem ist ein Hardbake erforderlich, der den Lack vernetzt, ohne dass es zu Verschiebungen oder Spannungen kommt. Beides muss konsistent erfolgen, damit der Prozess Lot für Lot der Qualifizierung standhält.

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