Trocknen on Warm IR Heating Equipment

Energieaudyt für die Fabriktrocknung

Tue, 21 Jul 2026 02:17:19 +0800

Verhindern des Wärmeverlusts bei der Trocknung von Wafern
Beim Trocknen von Wafern in einer Fertigungsanlage muss ein feiner Ausgleich gefunden werden. Es ist notwendig, die Feuchtigkeit von der Oberfläche der Wafer schnell zu entfernen – doch wenn man zu viel Hitze einsetzt, besteht die Gefahr, dass die Wafer beschädigt werden.

Die meisten Menschen verwenden dazu Infrarotstrahler. Doch das Problem ist: Eine herkömmliche Quarzlampe ist ziemlich ineffizient. Ein großer Teil der abgegebenen Wärme strahlt in alle Richtungen ab und trifft somit die Wände der Maschine anstelle der Wafer. Das ist im Grunde genommen wie versuchen, ein Zimmer mit offenen Fenstern zu heizen.

Günstige Glühbirne für die Trocknung von Wafern

Thu, 25 Jun 2026 01:46:05 +0800

In der Fertigungsbühne reicht bereits eine einzige Charge, die nicht den Anforderungen entspricht, aus, um ganze Mengen an Produkten als unbrauchbar zu betrachten. Temperaturgleichmäßigkeit, Partikelzahl im Reinraum sowie Wiederholgenauigkeit sind keine Kennzahlen, die man in Präsentationen berücksichtigt – sie bestimmen vielmehr, ob ein Produkt als gut genug gilt oder ob es als unbrauchbar angesehen werden muss. Wir haben eine Lampe entwickelt, die dafür sorgt, dass der Photoresist während des Trocknungsprozesses innerhalb des optimalen Temperaturbereichs bleibt – ohne dass dabei auf Präzision verzichtet werden muss.