Waferverdünnung durch Infrarotheizen

Tue, 23 Jun 2026 13:31:55 +0800

Auf der Herstellungsfläche sorgt das Verdünnen des Wafers dafür, dass die Schaltkreise sichtbar werden. Dabei kann man mit dem thermischen Bedarf nicht verhandeln. Die Integrität des Fotolacks, der Oxiddruck sowie die Verformungen des Wafers – all das hängt von der Temperaturregelung ab. Schon eine Abweichung von einem halben Grad kann zu Spannungen im Film führen, was wiederum zur Trennung der Schichten führen kann – und somit dazu, dass ganze Chargen von 300 mm Wafers unbrauchbar werden. Wir haben unsere Infrarot-Heizplattform so konzipiert, dass sie diese Temperaturprofile von Cycle zu Cycle stabil hält.

Verdünnung on Warm IR Heating Equipment

Waferverdünnung durch Infrarotheizen