Calentador de cocción resistente a los haces de electrones

Sat, 27 Jun 2026 01:52:16 +0800

En la etapa de litografía, el proceso de secado del resistente con haz de electrones no es simplemente otro paso más; es, de hecho, el factor clave para controlar el ancho de las líneas impresas. Una desviación de 5°C en la temperatura de secado afecta negativamente el margen de tolerancia de las dimensiones críticas del chip. La improvisación no tiene lugar en este proceso, y ciertamente no sobrevive durante la producción.

Lámpara de horneado de fotoresistente

Thu, 04 Jun 2026 01:12:33 +0800

En la planta de fabricación, se mide el margen de error en el procesamiento de fotoresistentes en nanómetros. Unos pocos grados de desviación durante el soft bake o el hard bake son suficientes para alterar dimensiones críticas y afectar el rendimiento. Construimos nuestras lámparas de horneado por infrarrojos para fotoresistentes con el fin de eliminar esa incertidumbre.

Lo que importa técnicamente
Utilizamos emisores de infrarrojo cercano (NIR) para dirigir la energía directamente a la capa de fotoresistente, minimizando el retardo térmico. A lo largo de todo el perfil de horneado, se logra una uniformidad a nivel de oblea dentro de ±0.1°C. El control en lazo cerrado mantiene esa precisión estable incluso cuando la tensión de línea fluctúa o la temperatura ambiente varía.
La generación cero de partículas es un requisito básico en salas limpias Clase 1–100, y estas lámparas cumplen con ese estándar. La estabilidad de salida se mantiene durante más de 5,000 horas operativas.

Cocer Al Horno on Warm IR Heating Equipment

Calentador de cocción resistente a los haces de electrones

Lámpara de horneado de fotoresistente