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		<title>Termopar on Warm IR Heating Equipment</title>
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				<title>Termopar para calentador de semiconductores</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heat-tools.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Termopar para calentador de semiconductores&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En la planta de fabricación, una variación de 0,5°C en la temperatura de cocción puede afectar las dimensiones críticas de los wafer, convirtiendo muchos de ellos en desechos. La calefacción en los semiconductores no permite grandes errores. Tanto el proceso de cocción suave como el duro requieren parámetros constantes, los mismos en cada posición y en cada turno. Por eso, diseñamos nuestro termopar para adaptarse a estas condiciones.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Lo que realmente importa&lt;/strong&gt;&#xA;Utilizamos un termopar de tipo K, con una unión de baja masa té&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;rmica&lt;/a&gt; y una cubierta resistente a la oxidación. Su tiempo de respuesta es inferior a 200 ms, y mantiene una temperatura estable de 500°C de forma continua. El controlador lineariza la salida, y la geometría de la sonda coincide con el perfil del calentador, de modo que medimos el plano del wafer, no el bloque del calentador.&lt;/p&gt;</description>
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