http://warm-ir-heat-tools.com/fa/tags/%D8%B3%DB%8C%D9%84%DB%8C%DA%A9%D9%88%D9%86-%DA%A9%D8%A7%D8%B1%D8%A8%DB%8C%D8%AF/ Recent content in سیلیکون کاربید on Warm IR Heating Equipment Hugo fa Mon, 01 Jun 2026 18:06:13 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/fa/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ Mon, 01 Jun 2026 18:06:13 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/fa/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-heat-tools.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="چراغ گرمکننده فرآوری ویفر SiC"></p> <p>در محیط کارخانه، ویفرهای SiC هیچ فرصتی برای تغییر دما به شما نمی‌دهند. تغییر ۲ درجه سانتی‌گراد در طی فرایند پخت فوتورزیست کافی است تا هم‌پوشانی (overlay) را به هم بریزد و پروفایل نامناسب لامپ می‌تواند منجر به از دست رفتن یک دسته کامل شود. ما لامپ هیتر پردازش ویفر SiC را برای کار در همین شرایط طراحی کرده‌ایم.</p> <p><strong>از نظر فنی چه اهمیتی دارد</strong><br> ما از انتشاردهنده‌های هالوژنی مادون قرمز با طول موج کوتاه در پوسته کوارتزی استفاده می‌کنیم که به گونه‌ای تنظیم شده‌اند که جذب SiC را بهینه کنند تا ویفر سریع گرم شده و پایدار باقی بماند. در کل منطقه پخت، یکنواختی دمایی در سطح ویفر را در محدوده ±0.1°C حفظ می‌کنیم و تکرارپذیری چرخه به چرخه را در ±0.5°C نگه می‌داریم. رفتار مناسب در اتاق تمیز مهندسی شده است: استفاده از مواد سازگار با کلاس 1–100، عدم تولید ذرات در طی چرخه‌های حرارتی و طراحی کم انتشار که از ورود آلودگی به داخل محفظه جلوگیری می‌کند. نرخ افزایش دما سریع است بدون ایجاد بار حرارتی اضافی، و سیستم به گونه‌ای ساخته شده است که به صورت ۲۴/۷ با پروفایل قابلیت اطمینان پشتیبانی از صفر زمان توقف غیرمنتظره کار کند.</p>