http://warm-ir-heat-tools.com/fa/tags/characterization/ Recent content in Characterization on Warm IR Heating Equipment Hugo fa Wed, 17 Jun 2026 11:53:49 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/fa/posts/semiconductor-device-characterization-heater/ Wed, 17 Jun 2026 11:53:49 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/fa/posts/semiconductor-device-characterization-heater/ <p><img src="http://warm-ir-heat-tools.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="هیتر برای مشخصسازی ویژگیهای دستگاههای نیمههادی"></p> <p>در کارخانه‌های تولید سیم‌های نیمه‌هادی، تغییر دما در حین فرآیند حرارت‌دهی به رزیستورهای فوتونی، نه تنها باعث تغییر مقدار CD می‌شود، بلکه ساعت‌ها از زمان لازم برای لیتوگرافی را نیز از بین می‌برد؛ همچنین ویفرهایی که می‌توانستند برای استفاده ارسال شوند، به ضایعات تبدیل می‌شوند. هیترهایی که عملکرد مناسبی ندارند، باعث می‌شوند که کنترل دما کار دشواری شود؛ همچنین، هر باری که نیاز به بازبینی عملکرد هیتر باشد، باعث کاهش زمان کاری می‌شود.</p> <p>ما این هیتر را به گونه‌ای طراحی کرده‌ایم که کنترل دما در آن قابل تکرار باشد و ساختار آن نیز با استانداردهای اتاق‌های پاکسازی سازگار باشد. یکنواختی دما در ناحیه فعال ویفر، در حد ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد است؛ بنابراین، فرآیندهای حرارت‌دهی با کمترین تغییرات در دما انجام می‌شود.</p>