Élément de chauffage pour four à semi conducteurs

Wed, 01 Jul 2026 07:31:40 +0800

Sur le lieu de fabrication, on apprend rapidement : une chaleur insuffisante, même de 0,3 °C, peut modifier les paramètres d’exposition des wafers. À l’inverse, une chaleur excessive aux bords du wafer peut entraîner des problèmes lors du processus d’impression. Les wafers ne tolèrent pas d’inégalités thermiques.

Ce qui est important sur le plan technique Nous avons conçu les éléments de chauffage du four NIR autour d’émetteurs halogènes à infrarouges à ondes courtes, intégrés dans un boîtier en quartz. L’objectif est d’obtenir une uniformité sub-millimétrique sur toute la surface du wafer, ainsi que des valeurs de réglage stables, d’une série à l’autre. Le profil thermique est contrôlé avec une précision de ±0,1 °C, ce qui permet de éviter tout excès de chaleur lors du traitement des photorésistances. Les matériaux utilisés sont compatibles avec les salles propres, et leur conception minimise les risques de contamination du wafer ou de la chambre du four.

Four on Warm IR Heating Equipment

Élément de chauffage pour four à semi conducteurs