http://warm-ir-heat-tools.com/hi/tags/%E0%A4%A5%E0%A4%B0%E0%A5%8D%E0%A4%AE%E0%A5%8B%E0%A4%95%E0%A4%AA%E0%A4%B2/ Recent content in थर्मोकपल on Warm IR Heating Equipment Hugo hi Thu, 02 Jul 2026 03:50:01 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/hi/posts/thermocouple-for-semiconductor-heater/ Thu, 02 Jul 2026 03:50:01 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/hi/posts/thermocouple-for-semiconductor-heater/ <p><img src="http://warm-ir-heat-tools.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="सेमीकंडक्टर हीटर के लिए थर्मोकपल"></p> <p>फैब फ्लोर पर, बेकिंग तापमान में 0.5°C का अंतर ही कई वेफरों को बेकार बना सकता है। सेमीकंडक्टरों के लिए ऐसी छोटी-मोटी त्रुटियाँ भी स्वीकार्य नहीं हैं। फोटोरेजिस्ट को ठीक से बेक करने हेतु निश्चित तापमान स्तर आवश्यक है… हर स्लॉट में, हर शिफ्ट में यह तापमान स्तर समान ही होना चाहिए। हमने इसी आवश्यकता को ध्यान में रखकर ही थर्मोकपल बनाया है।</p> <p><strong>वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?</strong><br> हम ऐसे थर्मोकपल का उपयोग करते हैं, जिसमें कम थर्मल-मास वाला जंक्शन एवं ऑक्सीकरण-प्रतिरोधी आवरण होता है। इसकी प्रतिक्रिया समय 200 मिलीसेकंड से कम है, एवं यह 500°C पर भी स्थिर रहता है। कंट्रोलर, आउटपुट को लीनियर रखता है; इसके अलावा, प्रोब की संरचना हीटर के प्रोफाइल के अनुरूप होती है… इसलिए हम वेफर के समतल हिस्से को ही मापते हैं, न कि हीटर ब्लॉक को।<br> वेफरों में तापमान स्थिरता ±0.1°C के भीतर ही रहती है… साथ ही, स्व-तापन कम होता है, एवं EMF में भी कोई बदलाव नहीं होता। यह उपकरण क्लास 1–100 के क्लीनरूमों में ही उपयोग में आ सकता है… साथ ही, इसकी सामग्रियाँ एवं जंक्शनों से कोई कण निकलते नहीं हैं।</p>