अर्धचालक उपकरणों के गुणनिर्धारण हेतु हीटर

Wed, 17 Jun 2026 11:53:49 +0800

फैब फ्लोर पर, फोटोरेजिस्ट को गर्म करने की प्रक्रिया में 2°C का अंतर होने से न केवल CD में परिवर्तन होता है, बल्कि लिथोग्राफी की प्रक्रिया में कई घंटों का नुकसान भी होता है। ऐसी स्थिति में वे वेफर बेकार हो जाते हैं। खराब गुणवत्ता वाले हीटरों के कारण थर्मल बजट संबंधी अनुमान लगाना मुश्किल हो जाता है, और हर बार पुनः प्रमाणीकरण की प्रक्रिया से उत्पादन समय में कमी आ जाती है।

हमने इस सेमीकंडक्टर उपकरणों के लिए हीटर को ऐसे ही डिज़ाइन किया है कि इसमें तापमान नियंत्रण सटीक रहे, एवं यह क्लीनरूम-अनुकूल हो। एक्टिव जोन में वेफर की समानता ±0.1°C तक ही रहती है; इससे सॉफ्ट बेक एवं हार्ड बेक प्रक्रियाओं में वेफर में कोई विविधता नहीं आती।

Characterization on Warm IR Heating Equipment

अर्धचालक उपकरणों के गुणनिर्धारण हेतु हीटर