Pemanas pembakaran tipe E beam

Sat, 27 Jun 2026 01:52:16 +0800

Di lini litografi, proses pemanasan bahan resist menggunakan E-beam bukan sekadar langkah biasa saja—melainkan merupakan faktor penting dalam mengontrol ketebalan garis yang dihasilkan. Perubahan suhu sebesar 5°C selama proses pemanasan dapat dengan cepat mempengaruhi dimensi kritis dari bahan resist tersebut. Tidak boleh ada kesalahan dalam proses ini, apalagi di tingkat produksi.

Kami merancang pemanas untuk bahan resist E-beam berdasarkan satu syarat penting: perilaku termal yang konsisten, sesuai dengan spesifikasi yang ditetapkan, bukan sembarangan.Elemen pemanas menggunakan gelombang inframerah pendek untuk mentransfer energi secara langsung dan cepat, sehingga responsnya hanya membutuhkan waktu beberapa detik saja, tanpa adanya area panas berlebihan. Di seluruh area pemanasan, tingkat keseragaman suhu pada wafer tetap berkisar antara ±0,1°C, sehingga setiap kali proses pemanasan dilakukan, kondisi termalnya tetap sama. Tingkat repetibilitas suhu mencapai beberapa milikelvin, sehingga dimensi kritis dan profil bahan resist tetap stabil dari satu batch ke batch lainnya. Bahan pelindung chamber dan permukaannya dipilih sedemikian rupa agar cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, tanpa adanya partikel yang terbentuk selama proses pemanasan. Platform ini dirancang untuk beroperasi 24/7, dengan sistem siklus termal yang efektif untuk menghindari waktu henti yang tidak diinginkan.

Melawan; Menolak on Warm IR Heating Equipment

Pemanas pembakaran tipe E beam