<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Penipisan on Warm IR Heating Equipment</title>
		<link>http://warm-ir-heat-tools.com/id/tags/penipisan/</link>
		<description>Recent content in Penipisan on Warm IR Heating Equipment</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 13:31:55 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heat-tools.com/id/tags/penipisan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanasan untuk menipiskan wafer menggunakan sinar inframerah</title>
				<link>http://warm-ir-heat-tools.com/id/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 13:31:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heat-tools.com/id/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heat-tools.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Pemanasan untuk menipiskan wafer menggunakan sinar inframerah&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di ruang produksi, proses pemipihan wafer memungkinkan kita untuk melihat &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;bagian&lt;/a&gt; dalam wafer tersebut. Namun, kontrol suhu merupakan hal yang tidak bisa diabaikan. Integritas lapisan fotorezist, tekanan oksida, serta deformasi wafer semuanya bergantung pada kontrol suhu yang tepat. Perubahan suhu sebesar setengah derajat saja sudah cukup untuk menyebabkan perubahan tekanan pada lapisan film, sehingga berpotensi merusak seluruh batch wafer berukuran 300 mm tersebut. Kami membangun platform pemanas inframerah yang mampu menjaga stabilitas suhu, dari satu siklus ke siklus berikutnya.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
