Peningkatan peralatan ruang bersih di pabrik

Sun, 19 Jul 2026 09:46:28 +0800

Mengurangi Emisi Karbon di Pabrik Semikonduktor: Beralih ke Sistem Pemanasan Inframerah
Sejujurnya, pabrik semikonduktor membutuhkan energi yang sangat banyak. Sebagian besar peralatan lama di ruang bersih masih menggunakan sistem pemanasan resistif atau metode pemanasan konvensional yang hanya menyebabkan pemborosan energi. Itu merupakan pemborosan yang tidak perlu terjadi. Itulah sebabnya semakin banyak pabrik yang beralih ke sistem pemanasan inframerah berfrekuensi pendek (Short-Wave Infrared/ SWIR). Ini merupakan cara yang lebih efisien untuk memanaskan bahan-bahan yang digunakan dalam proses produksi semikonduktor.

Peralatan jalur produksi wafer

Mon, 22 Jun 2026 19:35:51 +0800

Di pabrik pembuatan chip, suhu bukan sekadar pengaturan semata—melainkan batasan yang penting. Perubahan suhu sebesar setengah derajat selama proses pemanasan fotoresist dapat menyebabkan penyimpangan pada dimensi komponen chip yang kritis, sehingga mengakibatkan pemborosan bahan dan waktu produksi. Itulah mengapa kami merancang modul pemanas inframerah yang mampu memberikan kontrol suhu yang akurat, tanpa adanya ruang untuk penyesuaian.

Yang penting secara teknis:
Kami menggunakan pemancar inframerah berfrekuensi rendah yang memiliki respons cepat dan kemampuan pengendalian spektrum yang baik, sehingga dapat memanaskan wafer secara langsung. Dengan demikian, terjadi penurunan hambatan termal dan pengaruh negatif dari lingkungan sekitar. Keseragaman suhu di permukaan wafer tetap berada dalam rentang ±0,1°C selama proses berlangsung. Hal ini memungkinkan proses pemanasan fotoresist berjalan secara stabil, sehingga profil reaksi kimia fotoresist tetap konsisten. Selain itu, sistem ini juga mampu menjaga stabilitas suhu secara kontinu, sehingga dapat beroperasi 24/7 dengan interval perawatan yang dapat direncanakan secara tepat.

Peralatan on Warm IR Heating Equipment

Peningkatan peralatan ruang bersih di pabrik

Peralatan jalur produksi wafer