Riscaldatore per la caratterizzazione dei dispositivi a semiconduttori

Wed, 17 Jun 2026 11:53:49 +0800

Nelle linee di produzione, una variazione di temperatura di 2°C durante il processo di essiccazione del fotoresist non influisce soltanto sul valore CD; inoltre, comporta una perdita di ore di tempo prezioso necessario per la litografia, e fa sì che i wafer, che altrimenti potrebbero essere utilizzati, vengano considerati scarti. I termosifoni utilizzati per la caratterizzazione dei semiconduttori, se non performanti a sufficienza, rendono difficile prevedere il corretto funzionamento del sistema, e ogni procedura di riqualificazione riduce ulteriormente il tempo di funzionamento effettivo.

Characterization on Warm IR Heating Equipment

Riscaldatore per la caratterizzazione dei dispositivi a semiconduttori