Riscaldatore per cottura a fascio elettronico

Sat, 27 Jun 2026 01:52:16 +0800

Nella fase di litografia, la cottura del resistente all’E-beam non è semplicemente un passaggio aggiuntivo nel processo produttivo: rappresenta infatti un elemento fondamentale per il controllo della dimensione dei circuiti realizzati. Una variazione di temperatura di 5°C durante questa fase può avere effetti negativi sulla precisione delle dimensioni dei circuiti stessi. Non si possono permettere errori nella gestione di questo processo, soprattutto in ambito produttivo.

I riscaldatori utilizzati per la cottura del resistente all’E-beam vengono progettati tenendo conto di un requisito fondamentale: un comportamento termico preciso e affidabile. L’elemento riscaldante utilizza onde infrarosse a breve lunghezza d’onda per trasferire energia rapidamente e senza creare zone di calore eccessivo. Nella zona di cottura, l’uniformità della temperatura rimane entro i ±0,1°C, così che ogni singola scheda venga sottoposta alle stesse condizioni termiche. La ripetibilità della temperatura è molto elevata, permettendo così di mantenere stabili le dimensioni dei circuiti da lotto a lotto. I materiali utilizzati per costruire la camera di cottura sono selezionati appositamente per funzionare in ambienti sterili, garantendo così un funzionamento senza generazione di particelle durante il processo di cottura. La struttura del sistema è progettata per funzionare 24/7, con cicli termici ottimizzati per ridurre al minimo i tempi di fermo non pianificati.

Lampada per la cottura del fotoresist.

Thu, 04 Jun 2026 01:12:33 +0800

Sul piano di produzione, la tolleranza d’errore nel processo di fotoresist è misurata in nanometri. Anche pochi gradi di scostamento durante il soft bake o l’hard bake sono sufficienti a modificare le dimensioni critiche e compromettere la resa. Abbiamo progettato le nostre lampade a infrarossi per la cottura del fotoresist in modo da eliminare questa incertezza.

Cosa conta dal punto di vista tecnico
Utilizziamo emettitori a infrarosso a onde corte (NIR) per trasferire energia direttamente nello strato di fotoresist, riducendo al minimo il ritardo termico. Su tutto il profilo di cottura, si ottiene un’uniformità a livello wafer entro ±0,1°C. Il controllo a ciclo chiuso mantiene questa precisione stabile anche in presenza di variazioni di tensione di linea o di deriva della temperatura ambiente.
La generazione zero di particelle è un requisito fondamentale nelle cleanroom Class 1–100, e queste lampade lo garantiscono. La stabilità di uscita si mantiene per oltre 5.000 ore operative.

Cottura in Forno on Warm IR Heating Equipment

Riscaldatore per cottura a fascio elettronico

Lampada per la cottura del fotoresist.