http://warm-ir-heat-tools.com/it/tags/elaborazione/ Recent content in Elaborazione on Warm IR Heating Equipment Hugo it Mon, 01 Jun 2026 18:06:12 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/it/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ Mon, 01 Jun 2026 18:06:12 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/it/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-heat-tools.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Lampada riscaldante per la lavorazione di wafer in SiC"></p> <p>On the fab floor, i wafer in SiC non permettono margini di tolleranza sulla temperatura. Una variazione di 2°C durante la cottura del photoresist è sufficiente a compromettere l’overlay, e un profilo irregolare delle lampade può compromettere un intero lotto. Abbiamo progettato il nostro riscaldatore a lampada per il trattamento dei wafer in SiC tenendo conto di questa realtà.</p> <p><strong>Cosa conta, tecnicamente</strong><br> Utilizziamo emettitori alogeni a infrarossi a onda corta <a href="https://henruite.com">racchiusi</a> in un involucro di quarzo, calibrati per corrispondere all’assorbimento del SiC in modo che il wafer si riscaldi rapidamente e mantenga stabilità. Nella zona di cottura manteniamo un’uniformità a livello wafer entro ±0.1°C e una ripetibilità ciclo su ciclo entro ±0.5°C. Il comportamento in cleanroom è progettato in modo rigoroso: materiali conformi a Class 1–100, nessuna generazione di particelle durante il ciclo termico e un design a bassa emissione di gas che impedisce contaminazioni nella camera. Si ottengono velocità di rampa elevate senza superare il budget termico, e il sistema è costruito per funzionare 24/7 con un profilo di affidabilità che supporta zero fermi non programmati.</p>