Elemento riscaldante per forno a semiconduttori

Wed, 01 Jul 2026 07:31:40 +0800

Nella sala di produzione, si impara in fretta: anche una variazione di temperatura di soli 0,3°C può influenzare negativamente i risultati della lavorazione. Inoltre, un riscaldamento eccessivo nelle zone periferiche del forno può costringere l’operatore a intervenire nuovamente per correggere i problemi legati alla qualità dei wafer. I wafer non tollerano affatto situazioni di disomogeneità termica.

Cosa è importante dal punto di vista tecnico
I componenti di riscaldamento utilizzati nel forno NIR sono basati su emettitori a raggi infrarossi a onde corte, montati all’interno di strutture in quarzo. L’obiettivo è ottenere una uniformità termica estrema su tutto il piano del wafer, con valori costanti da un ciclo all’altro. Il profilo termico viene mantenuto entro i limiti di ±0,1°C; in questo modo si evita di sprecare energia preziosa nei processi di trattamento dei fotoresist. I materiali utilizzati sono compatibili con ambienti sterili, e la struttura del forno riduce al minimo la presenza di particelle, evitando così contaminazioni sui wafer.

Forno on Warm IR Heating Equipment

Elemento riscaldante per forno a semiconduttori