Lampada per la cottura del fotoresist.

Thu, 04 Jun 2026 01:12:33 +0800

Sul piano di produzione, la tolleranza d’errore nel processo di fotoresist è misurata in nanometri. Anche pochi gradi di scostamento durante il soft bake o l’hard bake sono sufficienti a modificare le dimensioni critiche e compromettere la resa. Abbiamo progettato le nostre lampade a infrarossi per la cottura del fotoresist in modo da eliminare questa incertezza.

Cosa conta dal punto di vista tecnico
Utilizziamo emettitori a infrarosso a onde corte (NIR) per trasferire energia direttamente nello strato di fotoresist, riducendo al minimo il ritardo termico. Su tutto il profilo di cottura, si ottiene un’uniformità a livello wafer entro ±0,1°C. Il controllo a ciclo chiuso mantiene questa precisione stabile anche in presenza di variazioni di tensione di linea o di deriva della temperatura ambiente.
La generazione zero di particelle è un requisito fondamentale nelle cleanroom Class 1–100, e queste lampade lo garantiscono. La stabilità di uscita si mantiene per oltre 5.000 ore operative.

Fotoresist on Warm IR Heating Equipment

Lampada per la cottura del fotoresist.