http://warm-ir-heat-tools.com/ja/tags/%E5%87%A6%E7%90%86/ Recent content in 処理 on Warm IR Heating Equipment Hugo ja Mon, 01 Jun 2026 18:06:12 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/ja/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ Mon, 01 Jun 2026 18:06:12 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/ja/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-heat-tools.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="SiCウェーハ加工用ヒータランプ"></p> <p>ファブフロアでは、SiCウェーハの温度<a href="https://o-yate.net">管理</a>に余裕はない。フォトレジストのベイク中に2℃の変動があるだけでオーバーレイがずれ、ランプのプロファイルが不適切だとロット全体が不良になる。私たちはこの<a href="https://o-yate.com">現実</a>に対応するため、SiCウェーハ処理用のヒータランプを設計した。</p> <p><strong>技術的に重要な点</strong><br> 石英封入の短波赤外線ハロゲンエミッタを使用し、SiCの吸収特性に合わせて調整することで、ウェーハを迅速かつ安定的に加熱する。ベイクゾーン全体でウェーハレベルの均一性を±0.1℃以内に保ち、サイクル間の再現性も±0.5℃以内に抑えている。クリーンルーム対応は材料選定から設計に組み込み、クラス1〜100の基準に準拠。熱サイクル中の粒子発生はなく、低アウトガス設計によりチャンバー内の汚染を防止する。急速な昇温が可能でありながら、熱予算を超過せず、24時間365日稼働を想定した信頼性プロファイルで、計画外のダウンタイムをゼロに近づける。</p>