http://warm-ir-heat-tools.com/ja/tags/%E8%A1%8C/ Recent content in 行 on Warm IR Heating Equipment Hugo ja Mon, 22 Jun 2026 19:35:50 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/ja/posts/wafer-fabrication-line-equipment/ Mon, 22 Jun 2026 19:35:50 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/ja/posts/wafer-fabrication-line-equipment/ <p><img src="http://warm-ir-heat-tools.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="ウェーハ製造ラインの装置"></p> <p>製造現場において、<a href="https://o-yate.com">温度</a>というのは単なる設定値ではなく、重要な制約条件です。フォトレジストのソフトベイク処理時にわずか半度でも温度が変動すると、重要な寸法がずれてしまい、大量の廃棄品が出てしまいます。そのため、私たちは、実際のリソグラフィーやフォトレジスト処理で求められる熱制御の要件に合わせて、赤外線加熱モジュールを設計しています。つまり、再現性の高い加熱ができ、妥協の余地がないのです。</p> <p><strong>技術的に重要な点</strong> 私たちは、応答速度が速く、スペクトル制御が正確な短波長赤外線発信器を使用し、ウェーハを直接加熱します。これにより、熱遅延が少なくなり、チャンバーの影響も抑えられます。プロセス中、ウェーハ全体の温度ばらつきは±0.1℃以内に保たれるため、ソフトベイク処理によってフォトレジストの流れや溶剤の除去が安定し、ハードベイク処理によって一貫した架橋が実現されます。</p>