Di bilik pengeluaran semikonduktor, perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk mengubah dimensi penting wafer tersebut, sehingga banyak wafer menjadi tidak boleh digunakan lagi. Suhu yang terlalu tinggi atau terlalu rendah akan merosakkan wafer tersebut. Proses pemanasan fotorezist memerlukan keadaan suhu yang konsisten – sama untuk setiap slot dan setiap syif kerja. Kami telah mencipta termokopel yang sesuai untuk keperluan ini.
Apa yang penting dalam sistem ini
Kami menggunakan termokopel jenis K yang memiliki titik sambungan dengan jisim haba yang rendah, serta lapisan pelindung yang tahan terhadap oksidasi. Masa tindak balasnya kurang dari 200 ms, dan ia dapat mengekalkan suhu pada tahap 500°C secara berterusan. Pengawal suhu pula memastikan keluaran yang konsisten, dan bentuk probe tersebut disesuaikan dengan bentuk pemanas, agar kita dapat mengukur permukaan wafer, bukan kotak pemanas itu sendiri.
Ketekalan suhu pada tahap wafer adalah sekitar ±0.1°C, dengan pengeluaran haba yang rendah dan perubahan EMF yang boleh diabaikan. Komponen ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100. Bahan-bahan yang digunakan juga tidak akan melepaskan zarah atau gas.
Mengapa cara ini berkesan
Dalam proses litografi dan modul pelapisan/pemanasan, termokopel ini membantu mengawal suhu dengan baik. Dengan cara ini, profil pemanasan fotorezist dapat dikawal dengan tepat, mengurangkan keperluan untuk memperbaiki wafer yang rosak, dan memudahkan pengurusan suhu. Hasilnya, wafer yang dihasilkan lebih berkualiti, dan kadar kegagalan produk berkurangan.
Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana pemanas dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan tepat, tanpa berlaku penyelewengan suhu. Kebolehpercayaan komponen ini bertahan selama puluhan ribu kitaran pemanasan, yang seterusnya mengurangkan keperluan untuk penyelenggaraan dan masa henti yang tidak dirancang.
Perhatian yang perlu diberikan
Tolernsi pemasangan haruslah sangat ketat. Hujung probe harus berada tepat pada titik sambungan yang ditentukan agar ketekalan suhu dapat dicapai. Jika menggunakan pemanas lama, mungkin diperlukan sedikit penyesuaian pada pengawal suhu, kerana jisim haba berbeza, dan ini akan menyebabkan perubahan respons sistem pemanasan.
Pastikan lapisan pelindung termokopel tidak rosak. Jika ia bengkok atau diputar terlalu kuat, maka ketepatan pengukuran akan terjejas. Lakukan pemeriksaan ketepatan pengukuran secara berkala. Walaupun termokopel yang terbaik pun akan menua, namun dalam industri semikonduktor, kami sudah merancang segala kemungkinan tersebut.