<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Dapur Pembakar on Warm IR Heating Equipment</title>
		<link>http://warm-ir-heat-tools.com/ms/tags/dapur-pembakar/</link>
		<description>Recent content in Dapur Pembakar on Warm IR Heating Equipment</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 01 Jul 2026 07:31:40 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heat-tools.com/ms/tags/dapur-pembakar/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Elemen pemanas dalam ketuhar berasaskan semikonduktor</title>
				<link>http://warm-ir-heat-tools.com/ms/posts/semiconductor-oven-heating-element/</link>
				<pubDate>Wed, 01 Jul 2026 07:31:40 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heat-tools.com/ms/posts/semiconductor-oven-heating-element/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heat-tools.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Elemen pemanas dalam ketuhar berasaskan semikonduktor&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran ini, anda akan belajar dengan cepat: perubahan suhu sebanyak 0.3°C sahaja sudah cukup untuk mengubah tahap pendedahan cahaya pada wafer tersebut. Selain itu, suhu yang terlalu tinggi di bahagian tepi wafer juga akan menyebabkan masalah dalam proses pengeluaran. Wafer tidak akan bertoleransi terhadap ketidakseragaman suhu.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h3 id=&#34;apa-yang-penting-dari-segi-teknikalnya&#34;&gt;Apa yang penting dari segi teknikalnya&lt;/h3&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami membina komponen pemanas dalam oven NIR menggunakan pelepas haba inframerah gelombang pendek dalam struktur kuarsa. Tujuannya adalah untuk &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;memastikan&lt;/a&gt; keseragaman suhu pada seluruh permukaan wafer, serta memastikan nilai tetapan suhu kekal konsisten dari satu proses pengeluaran ke proses yang lain. Profil suhu dapat dikawal pada tahap ±0.1°C, dan ia akan stabil dengan cepat, supaya tidak berlaku pembaziran tenaga semasa proses pengeluaran. Bahan-bahan yang digunakan sesuai untuk bilik bersih, dan reka bentuk yang minimisasi zarah-zarah kecil membantu mencegah kontaminasi pada wafer dan di dalam ruang oven.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
