http://warm-ir-heat-tools.com/ms/tags/membakar/ Recent content in Membakar on Warm IR Heating Equipment Hugo ms Sat, 27 Jun 2026 01:52:16 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/ms/posts/e-beam-resist-baking-heater/ Sat, 27 Jun 2026 01:52:16 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/ms/posts/e-beam-resist-baking-heater/ <p><img src="http://warm-ir-heat-tools.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Pemanas untuk proses pembakaran menggunakan sinar E beam"></p> <p>Dalam proses litografi, proses pemanasan bahan resist menggunakan sinar E-beam bukan sekadar langkah biasa sahaja – ia merupakan faktor penting untuk mengawal ketebalan garis pada permukaan wafer. Perubahan suhu sebanyak 5°C semasa proses pemanasan boleh memberi kesan negatif terhadap dimensi kritikal wafer. Tidak boleh ada unsur spekulasi dalam proses ini, dan ia pasti tidak akan diterima dalam pengeluaran secara besar-besaran.</p> <p>Kami mereka bentuk pemanas untuk proses pemanasan bahan resist ini berdasarkan satu syarat utama: prestasi termal yang konsisten, bukan sesuatu yang tidak dapat diramalkan. Element pemanas menggunakan gelombang inframerah jarak pendek untuk memindahkan tenaga dengan cepat, sehingga masa tindak balasnya kurang dari satu saat, tanpa adanya kawasan yang terlalu panas. Di kawasan pemanasan tersebut, keseragaman suhu pada setiap wafer adalah sekitar ±0.1°C, supaya setiap wafer mendapat suhu yang sama. Ketepatan suhu pula berada dalam lingkungan beberapa milikelvin, yang membantu menjaga kestabilan dimensi wafer dari batch ke batch. Bahan-bahan yang digunakan untuk pembinaan sistem ini dipilih agar sesuai untuk operasi di bilik bersih, serta dapat mengekalkan keadaan bebas zarah semasa proses pemanasan. Sistem ini direka untuk beroperasi 24/7, dengan kitaran suhu yang terkawal agar tidak berlaku gangguan operasi.</p> http://warm-ir-heat-tools.com/ms/posts/photoresist-baking-lamp/ Thu, 04 Jun 2026 01:12:33 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/ms/posts/photoresist-baking-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-heat-tools.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Lampu penaik photoresist"></p> <p>Di lantai fabrikasi, anda mengukur margin kesilapan dalam pemprosesan photoresist pada skala nanometer. Beberapa darjah penyimpangan semasa soft bake atau hard bake sudah cukup untuk mengubah dimensi kritikal dan <a href="https://goldisgood.com">merosakkan</a> hasil pengeluaran. Kami membina lampu pembakar photoresist inframerah untuk menghilangkan ketidakpastian tersebut.</p> <p><strong>Apa yang penting secara teknikal</strong><br> Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek (NIR) untuk menghantar tenaga terus ke lapisan photoresist, supaya kelewatan terma kekal minimum. Sepanjang profil pembakaran penuh, anda mendapat keseragaman pada tahap wafer dalam julat ±0.1°C. Kawalan gelung tertutup mengekalkan ketepatan itu walaupun voltan talian berayun atau suhu persekitaran berubah.</p>