<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Menipis on Warm IR Heating Equipment</title>
		<link>http://warm-ir-heat-tools.com/ms/tags/menipis/</link>
		<description>Recent content in Menipis on Warm IR Heating Equipment</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 13:31:55 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heat-tools.com/ms/tags/menipis/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanasan untuk menipiskan wafer menggunakan gelombang inframerah</title>
				<link>http://warm-ir-heat-tools.com/ms/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 13:31:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heat-tools.com/ms/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heat-tools.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Pemanasan untuk menipiskan wafer menggunakan gelombang inframerah&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;proses&lt;/a&gt; penyempitan wafer tersebut, lapisan fotoresist akan terdedah, dan kawalan suhu merupakan faktor yang tidak boleh dikompromikan. Integriti lapisan fotoresist, tekanan oksida, serta masalah deformasi semuanya bergantung pada kawalan suhu yang tepat. Perubahan suhu sebanyak setengah darjah pun boleh menyebabkan perubahan tekanan pada lapisan tersebut, seterusnya merosakkan keseluruhan wafer berukuran 300 mm tersebut. Kami telah mencipta platform pemanasan inframerah untuk mengekalkan suhu yang stabil dari satu kitaran ke kitaran yang lain.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pemanasan inframerah berfungsi dengan menghantar tenaga secara langsung ke lapisan tipis tersebut. Array gelombang pendek NIR kami memastikan tenaga disalurkan ke tempat yang diperlukan, dengan ketepatan suhu sekitar ±0.1°C di kawasan aktif wafer. Kelajuan peningkatan suhu melebihi 10°C/s, sehingga proses pemanasan dapat dilakukan dengan lebih efektif tanpa berlaku peningkatan suhu yang berlebihan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
