<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>OEM on Warm IR Heating Equipment</title>
		<link>http://warm-ir-heat-tools.com/ms/tags/oem/</link>
		<description>Recent content in OEM on Warm IR Heating Equipment</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 19 Jun 2026 02:39:48 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heat-tools.com/ms/tags/oem/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Elemen pemanas semikonduktor OEM</title>
				<link>http://warm-ir-heat-tools.com/ms/posts/oem-semiconductor-heating-element/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 02:39:48 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heat-tools.com/ms/posts/oem-semiconductor-heating-element/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heat-tools.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Elemen pemanas semikonduktor OEM&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran semikonduktor, masalah perubahan suhu &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;semasa&lt;/a&gt; proses pemprosesan fotoresist bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan. Ia merupakan faktor yang boleh merosakkan kualiti produk yang dihasilkan. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi bahan tersebut. Jika proses pembakaran tidak dilakukan secara seragam, ia akan menyebabkan masalah pada permukaan bahan selepas proses etching. Kami telah mencipta komponen pemanas khusus untuk mengurangkan masalah ini sejak awal lagi.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikal&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan pemancar cahaya inframerah gelombang pendek dalam kotak kuarza/halogen, agar suhu dapat &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;dikawal&lt;/a&gt; dengan tepat sebaik sahaja proses mencapai keadaan stabil. Sepanjang proses pengeluaran, keseragaman suhu pada tahap wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C. Ini bermakna setiap proses pembakaran berjalan dalam julat suhu yang sesuai, tanpa menyebabkan fotoresist terlalu panas.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
