Pemanasan on Warm IR Heating Equipment

Pemanasan berasaskan semikonduktor yang menjimatkan tenaga

Thu, 30 Jul 2026 13:42:16 +0800

Mengapa fasiliti pembuatan pintar memerlukan penggunaan haba inframerah untuk mengawal suhu

Jika anda ingin membina fasiliti pembuatan berteknologi Industry 4.0, anda perlu memikirkan semula cara untuk menguruskan masalah berkaitan suhu.
Sistem pemanasan jenis resistive yang digunakan selama ini sangat lambat. Ia menyebabkan kelewatan yang tidak diingini, sehingga mengganggu kelancaran proses pengeluaran secara automatik. Itulah sebabnya kita beralih kepada sistem haba inframerah yang lebih efisien. Sistem ini membolehkan kawalan yang tepat berdasarkan data, sekaligus memastikan kelajuan proses pengeluaran dapat dipertahankan.

Elemen pemanas ganti kelas keselamatan IP65

Mon, 20 Jul 2026 09:32:39 +0800

Memilih Pemanas Inframerah yang Sesuai untuk Bilik Mandi Anda
Mengawal kuasa pemanas inframerah agar sesuai dengan keperluan bilik mandi merupakan perkara yang perlu dipertimbangkan dengan teliti. Anda ingin merasai kehangatan yang segera setelah keluar dari bilik mandi, tetapi pada masa yang sama, anda tidak mahu menggunakan kuasa yang berlebihan. Jika kuasanya terlalu tinggi, tenaga elektrik akan dibazirkan (atau lebih buruk lagi, litar akan terputus). Jika kuasanya terlalu rendah, anda masih akan merasa sejuk walaupun sudah memakai tuala.

Meja pemanas yang tahan air kelas IP44

Sat, 18 Jul 2026 01:59:54 +0800

Hentikan pembaziran masa untuk membaiki meja pemanas yang tahan air ini.
Inilah kenyataannya mengenai meja pemanas bertaraf IP44: anda sentiasa berjuang untuk mengekalkan keadaan kering di dalamnya sambil membenarkan haba berfungsi dengan baik. Kebanyakan masa, apabila komponen pemanas rosak, ia akan menjadi masalah besar. Anda perlu membongkar keseluruhan struktur meja tersebut hanya untuk menggantikan satu komponen yang rosak. Ini sangat menyusahkan dan merosakkan produktiviti anda.

Kami memutuskan untuk berhenti melakukan cara tersebut.

Pendekatan “Plug-and-Play”
Kebanyakan pemanas tahan air sukar untuk dibaiki, kerana lapisan pelindung yang digunakan untuk melindungi pemanas tersebut juga menghalang akses kepada komponen dalaman mesin tersebut. Kami menyelesaikan masalah ini dengan menggunakan pendekatan modular.

Elemen pemanas dalam ketuhar berasaskan semikonduktor

Wed, 01 Jul 2026 07:31:40 +0800

Di bilik pengeluaran ini, anda akan belajar dengan cepat: perubahan suhu sebanyak 0.3°C sahaja sudah cukup untuk mengubah tahap pendedahan cahaya pada wafer tersebut. Selain itu, suhu yang terlalu tinggi di bahagian tepi wafer juga akan menyebabkan masalah dalam proses pengeluaran. Wafer tidak akan bertoleransi terhadap ketidakseragaman suhu.

Apa yang penting dari segi teknikalnya

Kami membina komponen pemanas dalam oven NIR menggunakan pelepas haba inframerah gelombang pendek dalam struktur kuarsa. Tujuannya adalah untuk memastikan keseragaman suhu pada seluruh permukaan wafer, serta memastikan nilai tetapan suhu kekal konsisten dari satu proses pengeluaran ke proses yang lain. Profil suhu dapat dikawal pada tahap ±0.1°C, dan ia akan stabil dengan cepat, supaya tidak berlaku pembaziran tenaga semasa proses pengeluaran. Bahan-bahan yang digunakan sesuai untuk bilik bersih, dan reka bentuk yang minimisasi zarah-zarah kecil membantu mencegah kontaminasi pada wafer dan di dalam ruang oven.

Pemanasan untuk menipiskan wafer menggunakan gelombang inframerah

Tue, 23 Jun 2026 13:31:55 +0800

Pada proses penyempitan wafer tersebut, lapisan fotoresist akan terdedah, dan kawalan suhu merupakan faktor yang tidak boleh dikompromikan. Integriti lapisan fotoresist, tekanan oksida, serta masalah deformasi semuanya bergantung pada kawalan suhu yang tepat. Perubahan suhu sebanyak setengah darjah pun boleh menyebabkan perubahan tekanan pada lapisan tersebut, seterusnya merosakkan keseluruhan wafer berukuran 300 mm tersebut. Kami telah mencipta platform pemanasan inframerah untuk mengekalkan suhu yang stabil dari satu kitaran ke kitaran yang lain.

Pemanasan inframerah berfungsi dengan menghantar tenaga secara langsung ke lapisan tipis tersebut. Array gelombang pendek NIR kami memastikan tenaga disalurkan ke tempat yang diperlukan, dengan ketepatan suhu sekitar ±0.1°C di kawasan aktif wafer. Kelajuan peningkatan suhu melebihi 10°C/s, sehingga proses pemanasan dapat dilakukan dengan lebih efektif tanpa berlaku peningkatan suhu yang berlebihan.

Elemen pemanas semikonduktor OEM

Fri, 19 Jun 2026 02:39:48 +0800

Di bilik pengeluaran semikonduktor, masalah perubahan suhu semasa proses pemprosesan fotoresist bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan. Ia merupakan faktor yang boleh merosakkan kualiti produk yang dihasilkan. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi bahan tersebut. Jika proses pembakaran tidak dilakukan secara seragam, ia akan menyebabkan masalah pada permukaan bahan selepas proses etching. Kami telah mencipta komponen pemanas khusus untuk mengurangkan masalah ini sejak awal lagi.

Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan pemancar cahaya inframerah gelombang pendek dalam kotak kuarza/halogen, agar suhu dapat dikawal dengan tepat sebaik sahaja proses mencapai keadaan stabil. Sepanjang proses pengeluaran, keseragaman suhu pada tahap wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C. Ini bermakna setiap proses pembakaran berjalan dalam julat suhu yang sesuai, tanpa menyebabkan fotoresist terlalu panas.