<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Termokopel on Warm IR Heating Equipment</title>
		<link>http://warm-ir-heat-tools.com/ms/tags/termokopel/</link>
		<description>Recent content in Termokopel on Warm IR Heating Equipment</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 03:50:01 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heat-tools.com/ms/tags/termokopel/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Termokopel untuk pemanas berasaskan semikonduktor</title>
				<link>http://warm-ir-heat-tools.com/ms/posts/thermocouple-for-semiconductor-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 03:50:01 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heat-tools.com/ms/posts/thermocouple-for-semiconductor-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heat-tools.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Termokopel untuk pemanas berasaskan semikonduktor&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran semikonduktor, perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk mengubah dimensi penting wafer tersebut, sehingga banyak wafer menjadi tidak boleh digunakan lagi. Suhu yang terlalu tinggi atau terlalu rendah akan merosakkan wafer tersebut. Proses pemanasan fotorezist &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;memerlukan&lt;/a&gt; keadaan suhu yang konsisten – sama untuk setiap slot dan setiap syif kerja. Kami telah mencipta termokopel yang sesuai untuk keperluan ini.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam sistem ini&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan termokopel jenis K yang memiliki titik sambungan dengan jisim haba yang rendah, serta lapisan pelindung yang tahan terhadap oksidasi. Masa tindak balasnya kurang dari 200 ms, dan ia dapat mengekalkan suhu pada tahap 500°C secara berterusan. Pengawal suhu pula memastikan keluaran yang konsisten, dan bentuk probe tersebut disesuaikan dengan bentuk pemanas, agar kita dapat mengukur permukaan wafer, bukan kotak pemanas itu sendiri.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
