Pemanas inframerah untuk bilik vakum

Wed, 22 Jul 2026 02:33:22 +0800

Mengapa kita beralih daripada penggunaan udara panas kepada penggunaan haba inframerah dalam proses pemprosesan semikonduktor
Jika anda ingin mempercepatkan proses pemprosesan semikonduktor, anda pasti menyedari bahawa menunggu ruang tersebut dipanaskan merupakan proses yang sangat lambat.

Untuk waktu yang lama, kita bergantung pada penggunaan udara panas. Namun, masalahnya adalah kita perlu memanaskan seluruh ruangan—gas, dinding, dan segala benda di sekelilingnya—sebelum wafer benar-benar merasai kesan panasan tersebut. Proses ini sangat lambat dan tidak efisien.

Itulah sebabnya kita beralih kepada penggunaan pemanas berbasis haba inframerah. Daripada memanaskan “udara” di sekitar wafer, haba inframerah akan menghantar tenaga secara langsung ke permukaan wafer. Tidak ada perantara lagi.

Pemanas inframerah yang serasi dengan vakum

Fri, 10 Jul 2026 02:04:33 +0800

Memastikan Bilik Bersih Kelas 100 Tetap Bersih

Ketika bekerja di bilik bersih kelas 100 atau dalam ruang vakum, masalah “pelepasan gas” merupakan musuh utama yang perlu diatasi. Kebanyakan elemen pemanas biasa sangat tidak sesuai digunakan dalam persekitaran seperti ini. Apabila ia panas, ia akan melepaskan bahan organik yang mudah menguap (VOCs), atau menghasilkan zarah-zarah kecil. Jika anda bekerja dengan wafer atau lapisan optik yang berkualiti tinggi, ini akan menjadi bencana. Satu zarah kecil sahaja sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan produk yang dihasilkan.

Vakum on Warm IR Heating Equipment

Pemanas inframerah untuk bilik vakum

Pemanas inframerah yang serasi dengan vakum

Memastikan Bilik Bersih Kelas 100 Tetap Bersih