Fotoresist baklamp

Thu, 04 Jun 2026 01:12:33 +0800

Op de productievloer meet u de foutmarge in nanometers bij het verwerken van photoresist. Een paar graden afwijking tijdens soft bake of hard bake is al voldoende om kritieke afmetingen te verschuiven en de opbrengst te verminderen. Wij hebben onze infrarode photoresist bake-lampen ontwikkeld om die onzekerheid uit te sluiten.
Wat technisch van belang is
We gebruiken kortegolf-infrarood (NIR) emitter om energie direct in de photoresistlaag te brengen, zodat thermische vertraging minimaal blijft. Over het volledige bake-profiel bereikt u wafer-niveau uniformiteit binnen ±0,1°C. Gesloten-lus regeling zorgt dat die precisie stabiel blijft, zelfs bij spanningsschommelingen of temperatuursveranderingen in de omgeving.
Nul deeltjesproductie is standaard in cleanrooms klasse 1–100, en deze lampen voldoen daaraan. De outputstabiliteit blijft behouden gedurende meer dan 5.000 operationele uren.
Waarom het werkt in lithografie
Soft bake is bedoeld om oplosmiddelen tot het juiste residuniveau te reduceren, en hard bake fixeert het patroon. Voer deze thermische stappen herhaalbaar uit en u krijgt echte procescontrole.
U ziet strakkere lijnbreedtecontrole, minder defecten en cyclustijden waarop u kunt vertrouwen. Snelle opwarming en afkoeling verminderen ook het energieverbruik ten opzichte van conventionele hotplates, waardoor de operationele kosten dalen zonder dat de doorvoer vertraagt.
Wat u vooraf moet weten
De lampen passen direct in bestaande tracks en coaters, maar ze hebben een speciale, schone stroomvoorziening nodig om spectrale stabiliteit te waarborgen.
De afstand tussen emitter en wafer moet nauwkeurig worden ingesteld—elke afwijking verstoort uw thermisch budget en uniformiteit. Houd rekening met een korte inregelperiode om het profiel af te stemmen op uw specifieke photoresistchemie. Zodra dit is ingesteld, blijft het proces constant.

Fotolak on Warm IR Heating Equipment

Fotoresist baklamp