Verwarmer voor de fabricage van quantum dots

Sun, 31 May 2026 02:48:03 +0800

Watch the 300 mm wafer roll into the lithography cell. Spin on the photoresist, and the clock starts ticking. You need a soft bake that pulls out solvent without making the resist flow. You need a hard bake that crosslinks the resist without inducing slip or stress. And you need both—consistently—so the process survives lot after lot of qualification.
Als de wafer van 300 mm de lithografiecel binnenkomt, wordt de fotoresist aangebracht en begint de tijd te lopen. Er is een soft bake nodig die het oplosmiddel verwijdert zonder dat de resist vloeit. Daarnaast is een hard bake vereist die de resist crosslinkt zonder slip of spanningen te veroorzaken. Beide processen moeten consistent zijn, zodat de procedure loth na lot kwalificaties doorstaat.

Punt on Warm IR Heating Equipment

Verwarmer voor de fabricage van quantum dots