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		<title>Termopar on Warm IR Heating Equipment</title>
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		<description>Recent content in Termopar on Warm IR Heating Equipment</description>
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				<title>Termopar para aquecedor de semicondutores</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heat-tools.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Termopar para aquecedor de semicondutores&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;linha&lt;/a&gt; de produção, uma variação de 0,5°C na temperatura de cozimento pode afetar as dimensões críticas dos wafers, fazendo com que muitos deles se tornem inutilizáveis. O aquecimento em semicondutores não permite muitas imperfeições. Os processos de cozimento do fotoreativo exigem parâmetros fixos e consistentes – os mesmos em todos os slots e em todas as jornadas de trabalho. Por isso, desenvolvemos nosso termopar para atender a essas exigências.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;O que é importante por trás disso tudo&lt;/strong&gt;&#xA;Utilizamos um termopar do tipo K, com junção de baixa massa térmica e revestimento resistente à oxidação. A resposta do termopar fica abaixo de 200 ms, e ele mantém uma temperatura constante de 500°C. O controlador lineariza a saída do termopar, e a geometria da sonda permite que sejam medidas as características do próprio wafer, e não do bloco de aquecimento.&lt;/p&gt;</description>
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