http://warm-ir-heat-tools.com/ru/tags/%D0%B8%D1%81%D1%82%D0%BE%D0%BD%D1%87%D0%B5%D0%BD%D0%B8%D0%B5/ Recent content in Истончение on Warm IR Heating Equipment Hugo ru Tue, 23 Jun 2026 13:31:55 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/ru/posts/wafer-thinning-heating-infrared/ Tue, 23 Jun 2026 13:31:55 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/ru/posts/wafer-thinning-heating-infrared/ <p><img src="http://warm-ir-heat-tools.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Нагрев для тонкой обработки пластин с использованием инфракрасного излучения"></p> <p>На производственной площадке процесс тоннизации <a href="https://henruite.com">wafer</a>а позволяет обнажить сам кристалл. При этом температурный режим является фактором, с которым нельзя договариваться. Надежность фотополимерного слоя, напряжения в оксидном слое, его деформация – все это зависит от контроля температуры. Даже небольшое изменение температуры может привести к разделению слоев и потере всей партии продукции размером 300 мм. Мы разработали инфракрасную систему нагрева, которая позволяет поддерживать стабильный температурный режим на протяжении всех циклов обработки.</p> <p>Инфракрасное излучение передается непосредственно в тонкие слои и сам <a href="https://o-yate.com">substr</a>ат. Наши устройства для излучения коротких волн точно направляют энергию туда, где это необходимо; однородность температуры на поверхности waferа составляет ±0,1°C в рабочей зоне. Скорость изменения температуры превышает 10°C/секунду, что позволяет проводить процедуры нагрева без выхода температуры за установленные пределы.</p>