<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Wafers on Warm IR Heating Equipment</title>
		<link>http://warm-ir-heat-tools.com/tr/tags/wafers/</link>
		<description>Recent content in Wafers on Warm IR Heating Equipment</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>tr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 13:31:55 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heat-tools.com/tr/tags/wafers/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Wafer inceltme ısıtma kızılötesi</title>
				<link>http://warm-ir-heat-tools.com/tr/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 13:31:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heat-tools.com/tr/posts/wafer-thinning-heating-infrared/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heat-tools.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Wafer inceltme ısıtma kızılötesi&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Üretim alanında, waferin inceltilmesi sayesinde yonga ortaya çıkar ve termal kontrol konusu pazarlık konusu değildir. Fotoresistin bütünlüğü, oksit stresi, eğilme gibi faktörler hepsi sıcaklık kontrolüyle ilgilidir. Yarım derecelik bir değişiklik bile filmde stres oluşturarak delaminasyona neden olabilir ve tüm 300 mm’lik ürünleri boşa çıkarabilir. Bu yüzden termal profili her döngüde sabit tutmak için kızılötesi ısıtma platformu kullanıyoruz.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kızılötesi ısıtma, doğrudan ince filmlere ve substrata etki eder. Kısa dalga boyundaki NIR dizileri, &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;enerjiyi&lt;/a&gt; gerekli olan yere yönlendirir ve aktif bölgede sıcaklık homojenliği ±0.1°C civarındadır. Sıcaklık artış hızı 10°C/s’yi aşar; bu sayede yumuşak ve sert pişirme işlemleri sorunsuz olarak gerçekleştirilebilir.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
