http://warm-ir-heat-tools.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%97%D0%BC/ Recent content in Віфлеїм on Warm IR Heating Equipment Hugo uk Tue, 23 Jun 2026 13:31:55 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/uk/posts/wafer-thinning-heating-infrared/ Tue, 23 Jun 2026 13:31:55 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/uk/posts/wafer-thinning-heating-infrared/ <p><img src="http://warm-ir-heat-tools.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Нагрівання для тоншання пластини за допомогою інфрачервоного випромінювання"></p> <p>Під час процесу тонкого нанесення шару на пластину стає можливим видимість самої деталі. Однак температурний режим є фактором, який не підлягає коригуванню. Цілісність фотополімерного шару, напруга в оксидному шарі, деформація – усе це залежить від контролю температури. Навіть незначна зміна температури може призвести до деформації шару, що, у свою чергу, може зруйнувати всю партію продукції розміром 300 мм. Ми розробили інфрачервону систему опалення, яка дозволяє підтримувати стабільний температурний режим протягом кожного циклу обробки.</p> http://warm-ir-heat-tools.com/uk/posts/wafer-fabrication-line-equipment/ Mon, 22 Jun 2026 19:35:51 +0800 http://warm-ir-heat-tools.com/uk/posts/wafer-fabrication-line-equipment/ <p><img src="http://warm-ir-heat-tools.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Обладнання для виробництва ваферів"></p> <p>На виробничому цеху температура – це не просто параметр налаштування; це своєрідний „бар’єр“. Навіть незначне відхилення температури під час процедури розм’якшення фотополімеру може призвести до порушення критичних параметрів виробу, що призведе до втрати великої кількості продукції. Саме тому ми створили наші інфрачервоні нагрівальні модулі з урахуванням особливостей термоконтролю та обробки фотополімеру: стабільна температура без жодних компромісів.</p> <p><strong>Що є важливим з технічної точки зору</strong><br> Ми використовуємо емітери короткохвильового інфрачервоного світла з швидкою реакцією та точним контролем спектру, які нагрівають плату безпосередньо. Це дозволяє зменшити теплові затримки та вплив з боку середовища, в якому відбувається процес. Рівномірність температури на поверхні плати залишається в межах ±0,1°C протягом усього процесу. Це забезпечує стабільність подачі фотополімеру та видалення розчинника, а також ефективне зв’язування молекул фотополімеру.</p>