Дешевая лампочка для сушки вафер
На производственной линии достаточно одного изделия, не соответствующего стандартам качества, чтобы выбросить целую партию продукции. Равномерность...
Нагрев для тонкой обработки пластин с использованием инфракрасного излучения
На производственной площадке процесс тоннизации waferа позволяет обнажить сам кристалл. При этом температурный режим является фактором, с которым...
Нагревательная лампа для обработки подложек из карбида кремния (SiC)
На производственном участке SiC-воттеры не допускают отклонений температуры. Колебание на 2°C во время сушки фоторезиста способно вывести из строя...