Trong quy trình in ấn bằng kỹ thuật lithography, việc sấy khô lớp chất cản quang bằng tia E không chỉ là một bước đơn giản – đó thực sự là yếu tố...

Trong quy trình in ấn bằng phương pháp lithography, nhiệt độ từ thiết bị PEB dù chỉ thay đổi 0,2°C cũng có thể ảnh hưởng xấu đến chất lượng của các...

Trên sàn sản xuất, bạn đo biên độ sai số trong quá trình xử lý photoresist ở mức nanomet. Sai lệch chỉ vài độ trong quá trình soft bake hoặc hard...