在生产线上，人们很快就能掌握相关技巧：哪怕温度只变化0.3摄氏度，都可能影响光刻过程的精度；而如果加热不均匀，导致芯片边缘过热，那就需要再次对芯片进行处理。芯片无法容忍这种温度不均匀的情况。
技术上的关键点 我们设计的NIR烤箱，其加热元件是由石英材质制成的短波红外卤素发射器构成的。这样的设计旨在实现芯片表面的温度均匀性，确保每次加工时的参数都能保持一致。温度控制精度可达到±0.1摄氏度，且温度能迅速稳定下来，从而避免因温度波动而影响光刻质量。此外，该烤箱还采用了与洁净室相兼容的材料，以及减少颗粒产生的设计，从而防止污染物进入芯片或烤箱内部。
为什么这种方法有效 在光刻过程中，这种精确的温度控制意味着溶剂能够以一致的方式蒸发，聚合物也能以相同的速率流动。这样就能更好地控制芯片的尺寸精度，减少后续处理所需的步骤。此外，随着曝光剂量的变化，芯片的线宽也能得到更准确的预测。
该系统可以24小时持续运行，且输出性能稳定。有些设备已经运行了5,000小时以上，但依然保持着稳定的性能。能量消耗也得到了精确的控制，无需再猜测。
需要注意的事项 安装时，需要考虑烤箱腔体的几何结构以及气流分布情况——必须将加热元件放置在能使温度均匀分布的位置。安装后，需要让加热元件有足够的时间来稳定下来，以便确定正确的校准曲线。
该烤箱可以与1级到100级的洁净室配套使用，不过还需要确认排风系统的设置是否合理，以避免有害气体重新沉积在不应出现的地方。