In der Fertigung ist die Temperatur nicht einfach nur eine Einstellung – sie stellt vielmehr eine Grenze dar. Eine Abweichung von einem halben Grad während des Weichbrennvorgangs des Photorezysts kann dazu führen, dass die gewünschten Dimensionen nicht mehr eingehalten werden – mit dem Ergebnis, dass viele Produkte als unbrauchbar gelten. Deshalb haben wir unsere Infrarot-Heizmodule so konzipiert, dass sie den Anforderungen der Lithografie und des Photorezystverarbeitungsprozesses entsprechen: wiederholbare Heiztemperatur ohne Kompromisse.
Was technisch wichtig ist: Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotemitter mit schneller Reaktionszeit und präziser Spektralkontrolle, um die Wafer direkt zu erhitzen. Dadurch entsteht weniger thermische Verzögerung und weniger Einfluss durch die Behälterumgebung. Die Homogenität der Temperaturen auf der Waferoberfläche bleibt im gesamten Prozessbereich bei ±0,1°C – dadurch bleibt der Fluss des Photorezysts sowie die Entfernung des Lösungsmittels konstant. Der Härtebrennvorgang sorgt wiederum für eine gleichmäßige Vernetzung des Photorezysts.
Die Kompatibilität mit Reinräumen der Klassen 1–100 ist bereits in der Konstruktion berücksichtigt: Materialien mit geringer Gasemission, versiegelte Optiken sowie keine Partikelbildung. Das System behält auch unter kontinuierlicher Nutzung seine thermische Stabilität bei – es kann somit 24/7 betrieben werden, wobei Wartungsintervalle problemlos geplant werden können.
Warum es in der Produktion funktioniert: Das System lässt sich einfach in die Prozesse zum Trocknen der Wafer, zum Vorbrennen des Photorezysts sowie zum Nachbrennen nach der Belichtung integrieren – ohne dass die Produktivität beeinträchtigt wird. Die hohe Temperaturgenauigkeit reduziert die Abweichungen der Dimensionen und steigert dadurch die Qualität der Produkte. Schnelle Anpassungen der Heiztemperatur verkürzen die Prozesszeit und senken den Energieverbrauch pro Wafer. Zudem sorgt das optimale Temperaturprofil dafür, dass es zu weniger Oberflächenfehlern kommt – Folge davon sind weniger Nacharbeiten.
Was Sie beachten sollten: Die Infrarotheizung funktioniert nur in gerader Sichtlinie – daher beeinflussen die Geometrie der Wafer sowie die Konstruktion des Trägers die lokale Temperaturverteilung. Wir liefern ein validiertes Heizsystem – inklusive Platzierung der Emitter, Geometrie der Reflektoren sowie Sensorfeedback – damit Sie die gewünschten Ergebnisse bei reinem Silizium, strukturierten Wafern sowie komplexen Schichten erzielen können.
Erwarten Sie außerdem einen Kalibrierungsvorgang, um die Einstellungen an Ihren spezifischen Photorezyst- und Substrattyp anzupassen. Da die Ausgangsleistung sowie die Abmessungen des Systems mit den Anforderungen der Befestigungs- oder Brennvorrichtungen übereinstimmen müssen, sollten Sie vor der Installation die mechanischen und elektrischen Anforderungen überprüfen.