In der Lithografieproduktion ist das Erhitzen des E-Strahl-Resists keine bloße weitere Schritt im Prozess – es ist vielmehr entscheidend für die...

Im Bereich der Lithografie kann ein PEB-Hitzer, der auch nur 0,2 °C abweicht, dazu führen, dass die Ränder der CDs beschädigt werden – und damit auch...

Auf dem Fertigungsbereich messen Sie die Fehlermarge bei der Photoresistverarbeitung in Nanometern. Ein paar Grad Abweichung während des Soft-Bakes...